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高光谱成像仪中的Etalon效应研究 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第4-6页 | | Abstract | 第6-7页 | | 第1章 绪论 | 第10-24页 | | 1.1. 高光谱成像技术的发展及其应用 | 第10-14页 | | 1.1.1. 高光谱成像技术的发展历程 | 第10-12页 | | 1.1.2. 高光谱成像技术的应用 | 第12-14页 | | 1.2. 高光谱成像仪中的Etalon效应 | 第14-23页 | | 1.2.1. Etalon效应的成因 | 第14-16页 | | 1.2.2. Etalon效应的国内外研究 | 第16-23页 | | 1.3. 课题意义与主要研究内容 | 第23-24页 | | 第2章 Etalon效应的数学建模与仿真分析 | 第24-52页 | | 2.1. 多层介质干涉模型 | 第24-30页 | | 2.2. 单层介质干涉模型 | 第30-32页 | | 2.3. 影响因素定量分析 | 第32-51页 | | 2.3.1. 入射角 | 第32-33页 | | 2.3.2. 厚度 | 第33-36页 | | 2.3.3. 精细度系数 | 第36-38页 | | 2.3.4. 光谱分辨率 | 第38-42页 | | 2.3.5. 像元合并 | 第42-46页 | | 2.3.6. 入射光的光谱特征 | 第46-49页 | | 2.3.7. CCD的工作温度 | 第49-51页 | | 2.4. 本章小结 | 第51-52页 | | 第3章 实验测试与模型验证 | 第52-75页 | | 3.1. 背照式CCD的Etalon效应测试 | 第52-60页 | | 3.2. 高光谱成像仪的Etalon效应测试 | 第60-73页 | | 3.2.1. 辐射响应特性测试 | 第60-71页 | | 3.2.2. 光谱响应特性测试 | 第71-73页 | | 3.3. 本章小结 | 第73-75页 | | 第4章 光谱定标中的Etalon效应 | 第75-86页 | | 4.1. 光谱响应模型 | 第75-77页 | | 4.2. 光谱响应校正算法 | 第77-79页 | | 4.3. 光谱校正的精度评估 | 第79-85页 | | 4.4. 本章小结 | 第85-86页 | | 第5章 光谱成像数据中的Etalon效应校正方法研究 | 第86-112页 | | 5.1. Etalon效应的典型校正方法 | 第86-88页 | | 5.2. 基于场景的校正方法 | 第88-92页 | | 5.3. 基于像元合并的校正方法 | 第92-93页 | | 5.4. 校正效果评估与检验 | 第93-111页 | | 5.4.1. 评价指标 | 第93-94页 | | 5.4.2. 实验数据 | 第94-99页 | | 5.4.3. 校正结果与讨论 | 第99-111页 | | 5.5. 本章小结 | 第111-112页 | | 第6章 总结与展望 | 第112-115页 | | 参考文献 | 第115-120页 | | 致谢 | 第120-122页 | | 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第122-123页 |
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论文编号BS4151264，这篇论文共123页
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